9月2日，蔡司集团半导体业务负责人弗兰克·罗蒙德在彭博社节目中表示，中国在先进半导体制造设备方面大约还需15年的时间来赶上。他提到，中国需要更长的时间来研发极紫外（EUV）光刻机，称这一判断是“合理的”。不过，他也承认，由于技术进展难以量化，确切评估中国的现状非常困难。

随着中美在人工智能领域的竞争加剧，美国不断加强对华高端芯片及半导体设备的出口限制。EUV技术在制造AI加速器所需的先进芯片中至关重要，而阿斯麦是唯一一家能商业化生产EUV光刻机的供应商，蔡司则为其提供光学系统。目前，美国禁止阿斯麦向中国出口EUV光刻机，并收紧了对部分技术要求较低的浸润式DUV设备的出口。

在美国对中国半导体产业施压的背景下，中国近年来加快了核心技术的自主研发。瑞银对中国光源和激光子系统的专利申请进行了分析，认为阿斯麦从2004年到大规模生产EUV设备大约用了15年。但瑞银也指出，中国在DUV光刻技术上的追赶速度比EUV更快，尽管DUV技术不如EUV先进，但仍是半导体制造的核心设备。 龙8头号玩家国际

罗蒙德表示，出口限制可能对相关企业造成负面影响，并对其效果表示怀疑，认为这些限制可能会加速中国的创新进程。鉴于中国在相关技术上的持续研发，近期的进展并不让人感到意外。他强调，需要考察设备的实际性能，但在此之前，他坚称：“我们仍然保持领先。” 美国及其盟友所采取的限制措施，可能最终会产生相反的效果。